Turistické boty CMP Rigel Low WP - basic green

Turistické boty CMP Rigel Low WP - basic green byly vytvořeny s ohledem na milovníky turistiky. Nízký střih boty se osvědčí na stezce v každém ročním období a oku lahodící svršek je vyroben z odolného semiše a polyesterového materiálu.

Model byl opatřen vodoodpudivou impregnací, která poskytuje vysokou úroveň ochrany proti vlhkosti a zpomaluje promáčení svršku v případě deště. Ekologický charakter obuvi podtrhuje povrchová úprava DWR bez obsahu PFC.

Turistická obuv CMP Rigel Low WP - basic green je model se svrškem z vysoce kvalitních materiálů. Základem obuvi je odolná a pružná semišová kůže o tloušťce 1,4 mm. Pro zpevnění konstrukce a zvýšení odolnosti tohoto modelu se značka CMP rozhodla použít kevlarový materiál, který obepíná spodní část svršku a připomíná látkový obal. Zesílená konstrukce špičky minimalizuje riziko bolestivého zranění a poškození svršku. Za zmínku stojí použití patentované membrány ClimaProtect®, která zajišťuje zvýšenou nepromokavost a vysoký stupeň prodyšnosti.

Turistické boty CMP Rigel Low WP - basic green nabízejí vynikající trakci dosaženou díky podrážce CMP FullOn Grip z pryžové směsi. Můžete se tak spolehnout na dostatečnou přilnavost na suchém i mokrém povrchu při zachování nízké úrovně oděru. Antimikrobiální a anatomicky tvarovaná stélka Ortholite® se stará o dostatečnou oporu nohy. Mezipodešev tvoří lehká a odolná pěna EVA v kombinaci s TPU, což se projevuje optimálním odpružením a podporou.

Bota CMP Rigel Low WP - základní zelená - klíčové vlastnosti:

• Nízký model vyrobený z vysoce kvalitních materiálů;
• Svršek z 1,4 mm semišové kůže a polyesteru;
• Membrána ClimaProtect® pro zvýšenou nepromokavost a vysokou prodyšnost;
• Vodoodpudivá úprava PFC Free DWR;
• Zesílená konstrukce špičky;
• Vnitřní stélku tvoří uznávané řešení Ortholite®;
• Stélka poskytuje oporu klenby nohy a antibakteriální vlastnosti;
• Mezipodešev je kombinací pěny EVA a TPU;
• Gumová podrážka CMP FullOn Grip je zodpovědná za dostatečnou trakci na všech typech podkladu.